Hojas de grafito pirolítico para el crecimiento del silicio monocristalino de la industria de semiconductores
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Hojas de grafito pirolítico para el crecimiento del silicio monocristalino de la industria de semiconductores

El grafito pirolítico es carbono pirolítico con alta orientación cristalina depositado mediante deposición química en fase de vapor sobre un sustrato de grafito entre 1800 °C y 2000 °C bajo una determinada presión de horno de gas hidrocarburo de alta pureza.Tiene una alta densidad (2,20 g/cm), alta pureza (contenido de impurezas 0,0002%) y anisotropía en propiedades térmicas, eléctricas, magnéticas y mecánicas.Todavía puede mantener un vacío de 10 mmHg a alrededor de 1800 °C.
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Cantidad:


Ejemplos de aplicación de grafito pirolítico:


1. La velocidad de calentamiento del calentador PG/PBN es extremadamente rápida y la tasa de desgasificación es extremadamente baja.Este material calefactor es un material calefactor ideal para industrias y aplicaciones de semiconductores que requieren alto vacío, alta temperatura y alta pureza.Por ejemplo: calentamiento de sustrato semiconductor (MBE, MOCVD, PVD, CVD, etc.), calentamiento de sustrato superconductor, horno de recocido rápido, calentamiento de muestras de microscopio electrónico, fuente de calor de evaporación de metal, calentador de boquilla de calentamiento de gas, etc.


2. El grafito pirolítico tiene características sobresalientes como baja densidad, alta temperatura, alta resistencia, buena resistencia a la ablación y excelente resistencia al choque térmico.Es un material de revestimiento de garganta ideal para motores de misiles tácticos.


3. El grafito pirolítico es un material de preparación de rejillas de haces de iones muy común, que tiene las características de alta pureza, baja tasa de corrosión y expansión térmica limitada.La función de la rejilla del haz de iones es extraer los iones del plasma de la cámara de descarga a través de una serie de rejillas electrostáticas con muchos orificios pequeños en una disposición precisa.


4. El crisol PG tiene las ventajas de alta pureza, compacidad, baja permeabilidad al aire (igual que el vidrio), resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión ácida y alcalina, resistencia al enfriamiento repentino y cambios de calor repentinos, y fácil lavado.Los crisoles PG son superiores a los crisoles de platino, plata, níquel y otros en algunos aspectos.Principales aplicaciones del mercado:

  • Aplicación de muestras estándar y métodos de análisis estándar.

  • Preparación de óxidos metálicos de alta pureza, revestimiento iónico y otros campos.

  • Crisol de fundición para vaporizar aluminio en la industria de semiconductores

  • Recipientes de evaporación para la industria OLED

  • La aplicación del recubrimiento PG, a través del método de recubrimiento, refleja las características de alta densidad, baja tasa de desgasificación, resistencia a la corrosión y resistencia a la oxidación del grafito pirolítico, y se usa ampliamente en los siguientes campos:

  • En equipos MOCVD, recubrimiento base de grafito para crecimiento epitaxial de GaN.

  • Recubrimiento de pedestal de grafito para crecimiento epitaxial de silicio monocristalino, pedestal plano, pedestal circular, pedestal tridimensional.

  • Revestimiento de chasis de grafito para horno de sinterización de dispositivos de silicio monocristalino.

  • Recubrimientos superficiales en calentadores de grafito (calentadores de panel, calentadores redondos, calentadores de cartucho, etc.).

  • Recubrimiento de grafito para sinterización en diversos hornos túnel de óxido.

  • Recubrimiento a base de grafito para sinterización continua de pulvimetalurgia




Los parámetros técnicos del grafito pirolítico son los siguientes:

Materiales

LTPG

Densidad

2,2 g/cm33

Fuerza compresiva

≥ 85 Mpa (dirección ab)

resistencia a la tracción

≥ 76 Mpa (dirección ab)

Impureza

≤ 0,02%

Conductividad térmica

0,9 K/cm.s.℃ (dirección ab)

5*10-3 K/cm.s.℃ (dirección c)

Coeficiente de expansión térmica

3,2*10-6/℃ (dirección ab)

Hermético

Transmitancia de helio <10-10 cm2

Espaciado entre granos

≤ 3,42A


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